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水基清洗是以水为基本清洗介质，再添加其他物质组成的清洗剂。如碱性清洗、酸性清洗，表面活性剂清洗、皂化清洗、乳化清洗等(为叙述简便，上述各清洗介质均以“水基”替代)。
一、基本流程
①基本流程一
基本流程一为：[水基热浸洗+超声1]→[水基热浸洗+超声2]→[热纯水漂洗十超声3]→[热纯水漂洗]一→[热风干燥]。
②基本流程二
基本流程二为：[水基热喷淋]→[水基热浸洗+超声1]→[风刀吹净]→[热纯水喷淋]→[热纯水漂洗+超声2]→[热纯水喷淋]→[风刀吹净]→[通道热风干燥]。
二、工艺流程特点
1、不燃不爆，毒性低，安全性好。
2、水基清洗液的组成、浓度有多种选择，无机污染物很容易被清除，油脂、有机膜，水基润滑液、冷却液也能被水的化学过程有效去除，清洗范围广泛。
3、有多重清洗机理，除超声空化作用外，还有溶解、皂化、置换、乳化、悬浮等共同作用，组合清洗灵活有效。
4、价格低，来源广，比较经济。
5、其缺点是:表面张力比较高；干燥难，能耗大；有污水处理问题；对洁净度要求高的工件，表面活性剂不容易被水漂洗干净；对水敏感的电子器件不适合水基清洗。
