TEL . 0755-29985160 | 400-0099-333

您可以根据 使用场景 | 容量大小 | 清洗槽数量 | 功能需求 来查找我们的产品

半导体晶片的高清洁度清洗方式是什么?用超声波清洗设备试试

分类:产品资讯 26

半导体晶片超声波清洗机是一种专业的半导体晶片清洗设备,广泛应用于IC生产和半导体元件生产中晶片的湿法化学工艺。可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、天然氧化层和石英。塑料等附件的污染物,不会破坏芯片的表面特性。

冠博仕超声波清洗机

半导体晶片超声波清洗机发展背景

超声波清洗的目的主要是去除半导体晶片/晶圆表面的污染物,如颗粒、有机物、无机金属离子、氧化层等杂质。半导体晶片/晶圆表面吸附杂质的主要原因是晶片/晶圆表面原子的化学键断裂,形成悬空键,在表面形成自由力场,便于吸附各种杂质。这些杂质很快与硅形成化学吸附,难以去除。

线路板清洗机

超声波清洗机清洗半导体晶圆具有以下特点:

1、机械手或多机械手组合,达到工位工艺要求。

2、PLC全程序控制和触摸屏操作界面,操作方便。

3、全封闭外壳,保证良好的清洁环境。

4、具有多种清洗功能,保证清洗均匀。

本文地址:https://www.guanbokeji.com/cpzx/517.html
版权声明:本页面内容版权归 冠博科技 所有,欢迎分享本文,转载请保留出处!

标签: 上一篇: 下一篇:
展开更多
填写表单 向我们定制您想要的产品

loading...